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共聚焦顯微鏡

發布時間:  2018-01-03

產品型號:  

產品報價:  

所  在  地:  蘇州工業園區星漢街5號騰飛新蘇工業坊B幢6樓13室

產品特點:  OLYMPUS OLS4100激光共聚焦顯微鏡用來測量表麵物理形貌,進行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表麵形貌、2D的縱深形貌、輪廓(縱深、寬度、曲率、角度)、表麵粗糙度等。

(聯係我時,請說明是在化工儀器網上看到的信息,謝謝!)
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產品概述

   OLYMPUS OLS4100激光共聚焦顯微鏡采用多孔共聚焦技術,結合CCD的影像攝取,以有許多孔洞的旋轉盤取代偵測器的孔洞,再將物鏡垂直移動,以類似斷層攝影方式,可在短時間(約幾秒)內精確量測物體的三維數據。其測量方式是非接觸式,不會破壞樣品的表麵,不需要在真空環境下測量,也可以用顯微鏡測量的功能來觀測樣本,其在嚴酷的工作環境下,也能正常使用。由於使用了共聚焦的方法,在測量漸變較大的高度時,跟其他方法相比,可以更精確量測物體高度,建立3D立體影像,優勢相當明顯。 

  OLYMPUS OLS4100激光共聚焦顯微鏡精密測量、表麵分析係統機台功能齊全,結構緊湊,性價比高,並擁有超高光學分辨率和zui全麵廣泛的三維表麵形貌分析能力。 

OLYMPUS OLS4100激光應用 
 *用來測量表麵物理形貌,進行微納米尺度的三維形貌分析,如3D表麵形貌、2D的縱深形貌、輪廓(縱深、寬度、曲率、角度)、表麵粗糙度等。 
  *精密部件:檢測對表麵磨損,表麵粗糙度,表麵微結構有要求的零部件,比如發動機汽缸、刀口等; 
  *生命科學:測量stents支架上鍍層厚度等 
  *微電子機械係統:微型器件的檢測,醫藥工程中組織結構的檢測,如基因芯片等 
  *半導體:檢測微型電子係統,封裝及輔助產品結構設計 
  *太陽能:電池片柵線的3D形貌表征、高寬比測量,製絨後3D形貌表征(單晶金字塔大小、數量、角度,多晶腐蝕坑形貌、密度),粗糙度分析等 
  *紙張:紙張、錢幣表麵三維形貌測量

OLYMPUS OLS4100激光技術參數 
  LED光源:λ= 505 nm, MTBF: 50,000 h 
  測量時間:5~10秒 
  測量原理:非接觸、共聚焦 
  X/Y方向,平台移動範圍:50mmX50mm,馬達驅動,分辨率:0.3μm 
  Z方向測量範圍:250μm,分辨率:2nm 
  物鏡:10X、20X、50X、100X(可選) 
  計算機:高性能計算機控製係統,功能全麵的軟件,有拚接功能, 
  工作電源:100-240V, 50-60Hz, input<45W 
  材質:鋼鐵、橡膠、大理石 
  外型尺寸:710x270x330 mm (HxD) 
  重量:28KG 
  潔淨室等級: Capability class 6 (according to DIN EN ISO 14644)


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